摘要：化學機械拋光（CMP）是半導體制造中關鍵的平坦化工藝，而控制研磨液中的大顆粒計數（LPC）對確保晶圓表面質量和提高產品良率至關重要。隨著工藝向更小納米級發展，對LPC的檢測精度要求更高。文章討論了LPC檢測的技術難點，包括高濃度樣品干...
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摘要：化學機械拋光（CMP）是半導體制造中關鍵的平坦化工藝，而控制研磨液中的大顆粒計數（LPC）對確保晶圓表面質量和提高產品良率至關重要。隨著工藝向更小納米級發展，對LPC的檢測精度要求更高。文章討論了LPC檢測的技術難點，包括高濃度樣品干...
過濾效率檢測儀是一種專門用于測量和評估過濾材料或過濾器對顆粒物、氣溶膠等污染物過濾效率的儀器。它廣泛應用于材料科學、紡織科學技術、安全科學技術、空氣凈化、醫療、制藥、食品、電子、化工等多個領域。過濾效率檢測儀通過模擬實際工作環境，向測試系統...
過濾效率檢測儀是一種專門用于測量和評估過濾材料或過濾器對顆粒物、氣溶膠等污染物過濾效率的儀器。它廣泛應用于材料科學、紡織科學技術、安全科學技術、空氣凈化、醫療、制藥、食品、電子、化工等多個領域。過濾效率檢測儀通過模擬實際工作環境，向測試系統...
在線激光粒度儀是一種用于實時監測和分析顆粒粒度分布的儀器，常用于工業過程控制中。這類儀器可以提供即時的數據反饋，幫助優化生產過程，確保產品質量，并滿足相關法規的要求。工作原理基于光的散射（衍射）現象。當激光束穿過含有顆粒的介質時，顆粒會散射...
全文共3140字，閱讀大約需要12分鐘1本文的應用背景盡管銅化學機械平坦化(CMP)已成為半導體制造業實現集成電路局部和全局平坦化的關鍵技術，但在阻擋層CMP過程中仍有一些問題需要克服，如有機殘留物、表面顆粒、蝶形缺陷、侵蝕和劃痕，其中，劃...
納米激光粒度分析儀，也稱為納米激光粒度儀或激光納米粒度儀，其工作原理基于顆粒在液體中的布朗運動及光散射現象。當單色激光照射到懸浮在液體中的納米粒子上時，粒子會散射光線。由于粒子在液體中做布朗運動，導致散射光的強度隨時間隨機波動。通過光電探測...
在線計數粒徑檢測儀是一種集自動進樣、自動稀釋、自動檢測、數據處理以及自動清洗等全自動檢測功能于一身的先進設備，它為用戶提供了方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析解決方案。其原理主要基于光的散射或衍射現象，這些現象與顆粒的大小、形狀、折射率以及入...
不溶性微粒檢測儀是一種用于檢測液體中不溶性微粒大小和數量的重要分析儀器，主要采用光阻法或顯微計數法來檢測液體樣品中的不溶性微粒。光阻法是通過激光束照射樣本，利用散射光信號的強度和方向來確定微粒的數量和尺寸。顯微計數法則是通過顯微鏡觀察并計數...
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